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离子束辅助沉积纳米钯钇合金膜性能

王和义  傅依备  韩军  
【摘要】:正在离子束辅助沉积装置上,采用分层镀膜的方式探索纯靶直接制备钯钇合金膜的可行性。载体(n型单晶硅片)和靶材(钯靶和钇靶)经去污处理后,钯(Pd靶)和钇(Y靶)分别装于离子束辅助沉积装置的左右两个靶台上,载体放在样品台上。离子束辅助沉积条件为离子束轰击能量为20keV,溅射源束流100mA,本底真空约0.4mPa,工作真空约4mPa,

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