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《2004年腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集》2004年
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硅酸盐溶液中不同电流密度下形成微弧氧化膜的性能研究

王燕华  王佳  张际标  
【摘要】:本文采用不同的氧化电流密度,在碱性硅酸盐溶液中镁合金AZ91D表面制得了一系列的微弧氧化膜,并且利用显微镜方法、X射线衍射方法和电化学阻抗方法对膜层的生长曲线、表面形貌、结构组成以及电化学阻抗等性能进行了比较研究。结果表明,氧化电流密度越高,膜层的生长速度越快,膜层的晶化程度越高,但是膜层也越粗糙、孔隙率升高,阻抗反而降低。膜层的阻抗性能主要取决于氧化膜的致密程度而与膜层的总厚度关系不大。
【作者单位】:中科院海洋所 中国海洋大学 中科院海洋所
【分类号】:TG174.36

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【引证文献】
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【共引文献】
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8 詹华;不同电源模式下电参数对AZ91D镁合金微弧氧化膜微观结构和耐蚀性能的影响[D];兰州理工大学;2010年
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1 徐吉林;NiTi合金表面微弧氧化改性研究[D];哈尔滨工业大学;2009年
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2 薛文彬,来永春,邓志威,陈如意,刘诰;镁合金微等离子体氧化膜的特性[J];材料科学与工艺;1997年02期
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9 惠记庄;不同电参数条件下铝、镁合金微弧氧化陶瓷研究[D];长安大学;2006年
10 姜均涛;镁合金微弧氧化中局部烧蚀现象及其解决方案研究[D];兰州理工大学;2009年
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