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《中国硅酸盐学会特种玻璃分会第三届全国特种玻璃会议论文集》2007年
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沉积功率对多晶硅薄膜结构和光学性质的影响

沈峰  夏冬林  李蔚  赵修建  
【摘要】:采用等离子体化学汽相沉积(PECVD)方法在普通玻璃衬底上制备出多晶硅薄膜。研究了在不同沉积功率下的薄膜的沉积速率、晶相结构、吸收系数和光学禁带宽度。实验结果表明,沉积功率为140W时薄膜沉积速率最大,达到 7.8 nm/min。沉积功率为30 W多晶硅薄膜的晶粒较大,平均尺寸200 nm左右。沉积功率为100 W薄膜有较高结晶度,晶化率达到68%。薄膜样品在波长为500nm的光吸收系数达到6×104cm-1,在不同功率下样品的光学禁带宽度在 1.70-1.85 eV之间变化。

【参考文献】
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