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《中国园艺学会第四届青年学术讨论会论文集》2000年
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高压静电场对黄瓜生长发育的影响

宋颖琦  于广建  
【摘要】:无论黄瓜种子时期是否经过静电场处理,苗期经适宜的静电场处理对植株生长均有促进作用,而且表现在后期第一雌花节位降低,雌花数目增加,Ⅰ30和Ⅱ20组优势表现最为明显, 这说明种子时期经电场处理后可以适当减少苗期在电场中的处理时间。从形态解剖学上观察可以看到经高压静电场处理植株叶片中海绵组织和栅栏组织厚度增加,细胞体积增大,气孔密度减小,茎部细胞生长和分裂的速度加快,髓腔内的薄壁细胞体积增大。
【作者单位】:东北农业大学 东北农业大学
【分类号】:S642.2

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【参考文献】
中国期刊全文数据库 前2条
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【相似文献】
中国期刊全文数据库 前1条
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