【摘要】：正采用磁控溅射法制备高纯钛膜,通过光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)等测试分析方法,对微观形貌、薄膜纯度、结合强度、膜厚及均匀性等进行了分析表征,并利用高真空微压吸氢试验系统对钛膜的吸氘特性、真空除气与活化工艺等进行了研究。结果表明:磁控溅射法制备的钛膜具有薄膜致密、纯度高、均匀性好、附着力强等优点。钛膜在高真空环境下逐步升
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张勇,丁力,张强基,牟方明,翟国良,赵鹏骥;钛膜吸氢与释氢特性的研究[J];真空科学与技术;1995年03期 |
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宋应民;罗顺忠;龙兴贵;彭述明;安竹;刘宁;庞洪超;段艳敏;吴兴春;杨本福;郑思孝;;磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备[J];原子能科学技术;2007年06期 |
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;[J];;年期 |
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