收藏本站
收藏 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

U薄膜分析样制备技术研究

张厚亮  吕学超  任大鹏  李嵘  赖新春  杨兴文  
【摘要】:采用Ar~+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar~+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar~+离子束刻蚀实验的比对;结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5keV的Ar~+离子束较1.0keV,U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而对金属Mo的刻蚀效果相比与之相反.Ar~+离子束溅射对材料表面具有纳米级超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工。

知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前20条
1 王明利,范正修;反应溅射TiO_2薄膜[J];中国激光;1996年11期
2 梅芳华,邵楠,魏仑,李戈扬;氮分压对反应溅射(Ti,Al)N薄膜微结构与力学性能的影响[J];真空科学与技术;2005年01期
3 王家敏,吴建生,毛大立;反应溅射中靶材成份对Si-Cr-Ni-O薄膜形成的XPS分析[J];上海交通大学学报;1995年03期
4 吴现成,王印月;反应溅射a-SiC_xN_y∶H薄膜特性[J];物理学报;1999年01期
5 凌磊,楼祺洪,叶震寰,董景星,魏运荣;紫外激光刻蚀多层线路板初步研究[J];中国激光;2003年10期
6 王印月,吴现成,王辉耀,陈光华;射频反应溅射非晶硅基薄膜的红外谱[J];兰州大学学报(自然科学版);1995年02期
7 张翔九,胡际璜,黄维宁,姜国宝;硅与反应溅射二氧化硅界面特性的研究[J];应用科学学报;1983年04期
8 陈光华,严辉,彭军,张亚菲;β-C_3N_4的制备及若干问题探讨[J];物理;1998年02期
9 朱勇,沈伟东,叶辉,顾培夫;磁控反应溅射SiN_x薄膜的研究[J];光子学报;2005年01期
10 叶志镇,唐晋发;直流反应磁控溅射氧化物光学薄膜及其性能研究[J];浙江大学学报(工学版);1989年06期
11 中村久三;DC反应溅射时防止异常放电的电源(A~2K)[J];真空;1995年03期
12 王宇晓,刘永华;准分子激光精细加工技术[J];山东轻工业学院学报;1999年03期
13 谷怀民,胡雪金,陈永荣,匡梅,赵震声;XeCl准分子激光精细刻蚀金刚石和玻璃的实验研究[J];应用激光;1998年01期
14 章琳,楼祺洪,魏运荣,董景星;紫外激光刻蚀位相光栅实验初步研究[J];应用激光;2001年04期
15 鲜晓斌,吕学超,张永彬,任大鹏;磁控溅射沉积U薄膜性能研究[J];原子能科学技术;2002年Z1期
16 徐俊中,赵逸琼,王炜,李永平,徐向东,傅绍军;离子束平动刻蚀工艺衍射光学元件的设计及制作[J];光学技术;2002年04期
17 佟洪波;柳青;巴德纯;;反应溅射AlN薄膜的动态特性[J];真空科学与技术学报;2009年01期
18 邱孝明;未来制造业和加工业中的等离子体[J];核聚变与等离子体物理;1998年04期
19 章琳,楼祺洪,魏运荣,董景星,李铁军,黄峰;准分子激光刻蚀聚合物微图形制作研究[J];激光技术;2002年02期
20 程世昌;傅德君;张辉;;反应溅射型射频固体离子源[J];武汉大学学报(理学版);1987年04期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 张厚亮;吕学超;任大鹏;李嵘;赖新春;杨兴文;;U薄膜分析样制备技术研究[A];第十四届全国核电子学与核探测技术学术年会论文集(下册)[C];2008年
2 张厚亮;吕学超;任大鹏;李嵘;赖新春;杨兴文;;U薄膜分析样制备技术研究[A];第十四届全国核电子学与核探测技术学术年会论文集(2)[C];2008年
3 邓常猛;耿永友;吴谊群;;GeSbTe相变薄膜的激光热刻蚀性质研究[A];中国光学学会2011年学术大会摘要集[C];2011年
4 吴现成;王印月;;室温溅射制备的α-SiCN:H膜的结构和光电特性研究[A];材料科学与工程技术——中国科协第三届青年学术年会论文集[C];1998年
5 刘志宇;王小辉;卫红;熊树林;;中频反应溅射镀制光学薄膜的研究[A];薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会论文集[C];2009年
6 王国东;刘彩霞;孙东明;陈维友;;双曲函数型包层光纤光栅的特性研究[A];全国第十二次光纤通信暨第十三届集成光学学术会议论文集[C];2005年
7 孙超;;非晶碳氢膜刻蚀率与离子能量分布函数关系的研究[A];2009年全国微波毫米波会议论文集(下册)[C];2009年
8 朱效立;王伟;刘世炳;陈涛;左铁钏;;KrF激光刻蚀PMMA若干现象的分析[A];大珩先生九十华诞文集暨中国光学学会2004年学术大会论文集[C];2004年
9 佟洪波;柳青;;应用模型研究反应溅射制备AlN薄膜过程(英文)[A];真空技术与表面工程——第九届真空冶金与表面工程学术会议论文集[C];2009年
10 胡伟;王人成;;基于提高靶材利用率的磁场与靶材刻蚀仿真研究现状[A];2010中国·重庆第七届表面工程技术学术论坛暨展览会论文集[C];2010年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 刘汉平;利用刻蚀和椭偏技术研究离子注入铌酸锂晶体的波导特性[D];山东大学;2008年
2 王立无;红外薄膜系统的设计和制备[D];四川大学;2007年
3 马紫微;HfO_2薄膜的溅射制备及其性能研究[D];兰州大学;2011年
4 张菲;电子材料紫外激光微加工技术与机理研究[D];华中科技大学;2012年
5 朱凝;基于硅纳米线波导的平面集成光器件的设计,制作与检测[D];浙江大学;2009年
6 江山;单片光子集成关键技术与宽带可调谐半导体激光器研究[D];清华大学;2009年
7 张彬;InP基环形激光器的模拟和实验研究[D];天津大学;2010年
8 肖司淼;基于狭缝波导的光器件研究[D];浙江大学;2010年
9 孙全;基于PolyMUMPs技术的微机电变形镜的研究[D];国防科学技术大学;2011年
10 衣云骥;聚合物平面光波导集成技术的基础研究[D];吉林大学;2012年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 施国峰;CHF_3等离子体刻蚀SiCOH低k薄膜时C:F沉积的影响与控制[D];苏州大学;2010年
2 杨玲;频率比对双频容性耦合等离子体SiO_2刻蚀的影响[D];苏州大学;2010年
3 郑直;HF酸刻蚀熔石英材料研究[D];电子科技大学;2011年
4 何桢;富nc-SiC的SiO_2薄膜制备及其发光特性的研究[D];北京交通大学;2009年
5 周荃;常压等离子体对高分子材料表面刻蚀的研究[D];东华大学;2007年
6 袁璐琦;等离子体环境下模板制备纳米点阵的理论研究[D];上海交通大学;2008年
7 葛丁壹;N面出光980nmVCSEL的工艺研究[D];长春理工大学;2011年
8 王振伟;非平衡反应磁控溅射迟滞效应的PID神经网络控制仿真研究[D];大连理工大学;2009年
9 汪海宾;凸面闪耀光栅的设计及其制作[D];苏州大学;2010年
10 裴文俊;复合型硅基场发射阵列阴极研究[D];电子科技大学;2010年
中国重要报纸全文数据库 前2条
1 晓林 武键 (武键 整理);激光雕刻技术对牛仔料的处理[N];中国服饰报;2009年
2 记者 王春;我科学家首次在光波波段发现逆多普勒效应[N];科技日报;2011年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978