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《中国核学会核材料分会2007年度学术交流会论文集》 2007年
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紫外可见光反射光谱法测试薄膜厚度装置及应用

王进  刘勋  雷洪波  赖新春  
【摘要】:运用薄膜光学干涉原理、光纤技术和干涉光谱分析技术,用光纤反射式光谱仪和紫外可见光光源(UV-VIS)建立了一套薄膜厚度测试装置。通过对薄膜样品反射光谱的测试,计算出薄膜的厚度。对薄膜无破坏作用,薄膜厚度测试范围为10nm~ 20μm。用此方法对 Si-SiO_2膜厚度进行了测试,与成熟的椭圆偏振仪测试结果相比,测试误差<5%。该方法测试简单、快速, 精度高,不需要制定仪器曲线,可对薄膜任意位置的厚度在线测试。采用这种方法对不同厚度的铀表面 U-UO_2厚度进行了测试,测试数据与椭圆偏振仪进行了对比,测试误差<5%。

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