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CVD-W晶粒取向和晶界结构的EBSD研究

孙红婵  李树奎  候岳翔  鲁旭东  郭伟  
【摘要】:采用电子背散射衍射技术(EBSD)测定了化学气相沉积纯钨(CVD-W)的晶粒取向和晶界分布特征,研究化学气相沉积方法制备纯钨的组织和晶界结构的特点。测试结果表明: CVD-W 生长组织具有三个生长区,分别是等轴晶区、混合生长晶区和柱状晶区;柱状晶区的晶粒具有显著的〈001〉择优生长;低 ZCSL 晶界占据较大比例,其中以∑3、∑5为主要结构,∑3的出现频率最大。研究认为 CVD-W 的晶粒取向和品界结构特点与沉积组织的生长特点密切相关。

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