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《2004年全国电子电镀学术研讨会论文集》2004年
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化学镀Ni-P合金耐蚀性的电化学研究

牛振江  王费华  郁平  李则林  杜小光  
【摘要】:在乙酸盐缓冲体系中通过改变柠檬酸的浓度得到不同P含量的化学镀Ni-P合金镀层,应用Tafel曲线研究了不同P含量的Ni-P镀层在3%NaCl、1.0 mol/L H_2SO_4、1.0 mol/L NaOH溶液中的腐蚀电化学行为。结果表明在中性NaCl和H_2SO_4溶液中,高磷镀层(P 12.0 wt%)的腐蚀电位比中磷镀层(P 8.5wt%)的腐蚀电位更正,而在NaOH溶液中,高磷镀层的腐蚀电位比中磷镀层的更负,但在三种腐蚀介质中,高磷镀层的阳极腐蚀电流密度都低于或接近于中磷镀层。

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【参考文献】
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