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《2004年全国电子电镀学术研讨会论文集》2004年
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复合电沉积法制备Ni/SiC梯度镀层

王宏智  姚素薇  张卫国  杉山孝雄  
【摘要】:采用复合电沉积法制备Ni/SiC梯度镀层。SEM和XRD测试表明,沿镀层生长方向,SiC含量由0vol%逐渐增加到30v01%,呈梯度分布;Ni和SiC各自在自己特定的角度分别出现其衍射特征峰,互不干扰,镀层中SiC含量增高,衍射强度变强。Ni/SiC梯度镀层中,沿镀层生长方向,硬度逐步增加(表层达688HV),呈梯度分布。耐磨实验和镀层延展性测试表明,Ni/SiC梯度镀层具有优良的耐磨性能和延展性能。
【作者单位】:天津大学化工学院应用化学系
【基金】:国家自然科学基金资助项目(59671058)
【分类号】:TQ153

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