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铜钴纳米多层膜的制备,结构及巨磁阻性能的研究

胡滢  曹为民  印仁和  曾绍海  王慧娟  
【摘要】:采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中,以单晶Si(111)为基底电沉积制备Co/Cu多层膜,确定了双槽法制备多层膜的工艺条件,为得到优良的多层膜巨磁阻材料,镀液体系中加入了自制的添加剂.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了二个衍射峰,大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,表明多层膜具有超晶格结构.用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能,GMR值达到52%.

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