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《第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集》2011年
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新型MPCVD装置制备大面积CVD金刚石膜的研究

翁俊  汪建华  熊礼威  满卫东  
【摘要】:正金刚石膜高的硬度、热导率、载流子迁移率、化学稳定性等优异的物理化学性能使其成为极具发展前景的新型材料。由于各领域特别是军事领域对金刚石膜的沉积面积和质量不断提高,使得对制备大面积高质量CVD金刚石膜的装置和工艺参数进行设计和研究显得尤为重要。本研究利用新型微波化学气相沉积(Microwave Plasma Chemical Deposition,MPCVD)装置(10kW,2.45GHz),进行了大面积CVD金刚石膜的制备研究。TM_(01)与TM_(02)两种模式的微波在新型MPCVD

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