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《第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会会议摘要集》2009年
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大气压介质阻挡表面放电制备TiO_2光催化膜的研究

底兰波  李小松  陈中明  刘景林  石川  徐勇  朱爱民  
【摘要】:正等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)一般利用非平衡等离子体的电子温度远高于重粒子温度的特性,可在低温下发生CVD反应,几乎适用于所有的基体材料,尤其适用于热敏性或不耐热的基体材料,因此是一种低温下制备薄膜的有效方法。但现有的等离子体CVD制备薄膜技术大多在低气压下(10~2-10~3 Pa)使用射频或微波放电,需要复杂昂贵的放电和真空系统。

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